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                芯片◤加工厂的污水处理方法

                来源:污水处理设备

                  芯片在整个加工制作的过程中是极其复杂的,其中包括芯片〗设计、晶片制作、封装制作、测试等几个环节,每一步对于芯片的清洗水的水质要求极其高,在半导体芯片加工厂将会有大量的工业污水排放,今天来了解一下关于:芯片加工厂的污水处理方法。

                芯片加工废水,污水处理方法

                  芯片加工厂的废水主要来源于:集成电路︽芯片制造生产工艺复杂,包括硅片〖刻蚀、清洗、化学气相沉积等工序反复交叉,生产中使用了大量的化学试剂如HF、H2SO4、NH3?H2O等。

                  因此芯片加工厂的废水可以分为含氨废水、CMP研磨废水、酸碱废水、含氟废水、含氮废水、酸碱废水。

                  芯片加工厂的污水处理工艺可分为以下几种:

                  1、浓氨吹脱吸收工艺—含氟废水两阶段沉淀工艺(含氟废水与CMP研磨废水混合处理)—三级酸碱中和处理工艺;

                  2、出水氟离子浓度达到

                  3、水氟离子浓度可控制在10mg/L以下:二级反应+沉淀+一级反应+沉淀的两阶段沉淀反应;

                  4、两级反应池、酸碱↙原液直接投加,运行出水不稳定且药剂消耗量很大;

                  对于不同的芯片在加工的过程中采用¤的原材料是不一样的,因此排放出来的废水含有的污染物成分是不一样的,成分不一样采用的水处■理工艺、处理的水处理药剂就会有所不同。